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      HMDS烘箱真空泵,HMDS系統(tǒng)用油泵

      HMDS烘箱真空泵,HMDS系統(tǒng)用油泵

      簡要描述:

      HMDS烘箱真空泵,HMDS系統(tǒng)用油泵在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝也顯得尤為重要。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。

      HMDS烘箱真空泵,HMDS系統(tǒng)用油泵簡介

      HMDS烘箱真空泵,HMDS系統(tǒng)用油泵廣泛應(yīng)用于制冷、電子、化工、醫(yī)藥、食品及科研所實(shí)驗(yàn)室的設(shè)備和自動(dòng)生產(chǎn)線上。先進(jìn)的設(shè)計(jì)理念加工更加合理的加工工藝,使各項(xiàng)性能指標(biāo)都達(dá)到了JB/T53017-92一等品標(biāo)準(zhǔn),其性價(jià)比在同行業(yè)中。

      技術(shù)參數(shù)

      型號(hào)

      DM2

      DM4

      DM8

      DM15

      抽氣速率(L/S)

      2

      4

      8

      15

      極限分壓強(qiáng)(Pa)

      氣鎮(zhèn)關(guān)

      ≤4×10-2

      ≤4×10-2

      ≤4×10-2

      ≤4×10-2

      氣鎮(zhèn)開

      ≤8×10-2

      ≤8×10-2

      ≤8×10-2

      ≤8×10-2

      極限總壓強(qiáng)(Pa)

      氣鎮(zhèn)關(guān)

      ≤5×10-1

      ≤5×10-1

      ≤5×10-1

      ≤5×10-1

      氣鎮(zhèn)開

      ≤1

      ≤1

      ≤1

      ≤1

      噪聲LP/LW

      52/63

      54/65

         58/71

      59/72

      水蒸氣抽除率(L/h)

      360

      520

      600

      1200

      進(jìn)氣口直徑

      DN25ISOKF

      DN25ISOKF

      DN40ISOKF

      DN40ISOKF

      排氣口直徑

      DN25ISOKF

      DN25ISOKF

      DN40ISOKF

      DN40ISOKF

      zui高油面工作溫度

      80

      85

      125

      130

      用油量(L)

      1.1

      1.5

      3.4

      4.5

      轉(zhuǎn)速r/min

      1400

      1430

      1400

      1420

      電動(dòng)機(jī)功率(kw)

      0.37

      0.55

      1.1

      1.5

      重量(kg)

      27

      36

      60

      70

      外形尺寸(mm)

      510×174×274

      550×174×274

      635×236×383

      695×236×383

       

      智能型HMDS烘箱,全自動(dòng)HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的重要性:
        光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。 在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝也顯得尤為重要。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。

      智能型HMDS烘箱,全自動(dòng)HMDS預(yù)處理系統(tǒng)主要技術(shù)性能:

      電源電壓:AC 220V±10%/50Hz±2%

      輸入功率:2500W

      控溫范圍:RT+10℃-250℃

      溫度分辨率:0.1℃

      溫度波動(dòng)度:±0.5℃

      達(dá)到真空度:133Pa(1torr)

      工作室尺寸(mm):450*450*450、350*350*350(可自定義)

      智能型HMDS烘箱,全自動(dòng)HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的*性:

      預(yù)處理性能更好,更加均勻;效率高,一次可以處理多達(dá)4盒的晶片;更加節(jié)省藥液;低液報(bào)警、防藥液泄漏等具有很強(qiáng)的安全保護(hù)功能;,有可自動(dòng)吸取添加HMDS功能,智能型的程式設(shè)定,一鍵完成作業(yè)

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